刘国栋首先解释：“起初，他并未考虑到光刻机内部电流密度的问题，只是凭借他对几何学的精通，尽量在现有光刻机基础上，采用更先进的组合方式，大幅提升了唐氏集团新光刻机的容量，几个月内将其提升到目前的极限！”
  “最初，丁毅教授和王衍院长来时，如果我们的光刻机组装完成，大约能达到4纳米精度的芯片刻蚀，我们本来打算向唐总报告，看能否用4纳米精度的光刻机暂时换取资金。”
  “但好景不长！”
  “那时网上已经流传，贾赫顿牛和米谢尔帕这两位光刻机领域的巨头参与的研究中，3纳米级别的光刻机原型已诞生，所以我们这边的研发就停滞了，陷入了瓶颈期……”
  听到这里，贾赫顿牛和米谢尔帕却摇着头说：“实际上，我们的产品只能停留在试验阶段，但唐氏集团的光刻机模式已经可以实现量产，所以本质上和价值都有所不同！”
  王放赞同道：“没错！”
  这时，王衍又转向王放问道：“那么，你们是如何最终实现2纳米级别精度的光刻机的呢？”


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